Titanium sputtering af høj renhed

Titanium sputtering af høj renhed

Titanium er et paramagnetisk ildfast metal med stærk sejhed og høj styrke, især i et iltfrit miljø. For mål, jo højere metalens kemiske renhed, jo bedre er ledningsevnen for filmen lavet af den.

Renheden af ​​titanium, der sputtering af mål, er så høje som 99,99%. Det er hovedsageligt fremstillet ved hjælp af elektronstråleafkøling og smeltningsmetode, og til sidst foretages forskellige størrelser og specifikationer af mål ved forskellige mekaniske behandlinger.

Den tynde film fremstillet af den høje renhed titanium sputtering mål produceret af vores factroy har ikke kun høj lysstyrke, stærk vedhæftning, ensartet tykkelse og holdbarhed, men har også stærk elektrisk ledningsevne, slidstyrke og korrosionsbestandighed.

Titanium -sputteringmål med høj renhed er et af kernematerialer til fremstilling af integrerede kredsløb og er vidt brugt i hardware -værktøjsbelægninger, bilbelægninger, dekorative belægninger, glasbelægninger, fladpaneldisplaybelægninger og halvlederenheder og andre felter.

Specifikation af Titanium Sputtering -mål med høj renhed

FAQ:

Hvad er MOQ?
A: Afhænger af mængde generelt ingen MOQ -grænse.

Hvordan betaler jeg for det?
A: En bankoverførsel (T\/T) vil være acceptabel.

Hvad er leveringstiden?
A: omkring 7-20 dage, der afhænger af mængden og produktionen.

Hvad er pakken?
A: Cartoon Case eller krydsfiner sag.

Hvad er ledetid?
A: Fra ordre, der er placeret til fragtmodtagelse, vil tage omkring 10-25 dage.

Hvad er leveringsmetoden?
A: Generelt sender vi last med UPS, DHL eller FedEx. Vi kan også sende ad havet til havn eller med fly til den nærmeste lufthavn.

Billede af Titanium Sputtering -mål med høj renhed

Populære tags: Titanium sputtering af høj renhed, Kina High Purity Titanium Sputtering Målleverandører, fabrik