Alloy sputtering mål

• Zrti Sputtering -mål

  Zrti Sputtering-mål bruges hovedsageligt i elektronisk informationsindustri, glasbelægningsfelt, højtemperaturkorrosionsbestandige materialer, high-end dekorative produkter,...

  Mere
• Zrti Sputter -mål

  Zrti Sputter -mål er et af de almindeligt anvendte metalsputteringsmål, som kan opdeles i plane mål, sprayede mål og roterende mål osv., Og spille en vigtig rolle i ionvakuumindustrien og...

  Mere
• Zirconium titanium zrti sputtering mål

  Zirconium titanium zrti sputtering mål er vidt brugt i multi-arc ion vakuumbelægning eller magnetron sputtering PVD i industrien og kan bruges som slidbestandige materialer, dekorative belægninger...

  Mere
• Titanium silicium sputtering mål

  Titanium silicium sputtering mål har egenskaberne ved høj mekanisk styrke, god slidstyrke, stærk korrosionsmodstand og god påvirkningsmodstand, egnet til bilbelægning af biler,...

  Mere
• CR-Ti Alloy Sputtering Target

  Tyndfilmbelægninger af høj kvalitet, der er sputteret af CR-Ti-legeringsputtering, bruges ikke kun som dekorative belægninger til ure, elektronik, kontrolkomponenter og mange andre produkter til...

  Mere
• Chromium titanium sputtering mål

  Titaniumkromlegeringer bruges ofte inden for det industrielle felt, hovedsageligt til produktion af kondensatorer i kraftværker, kompressordele til motorer, elektroder i elektrolyseindustrien og...

  Mere
• Chromium titaniumlegeringssputtering mål

  Kromtitanlegeringssputtering -mål har egenskaberne ved stærk påvirkningsmodstand, høj korrosionsbestandighed, høj belægningskvalitet, lang levetid og fremragende ledningsevne. Alle vores...

  Mere
• Wolfram Titanium (WTi) Sputtering Target

  Tungsten Titanium Sputtering Targets er produceret af pulvermetallurgiteknologi, som er meget udbredt til halvleder- og tyndfilmsolceller.

  Mere
• Aluminium Neodym (AlNd) Sputtering Target

  Aluminium neodym legering er et almindeligt anvendt magnetron sputtering mål. Aluminium har et smeltepunkt på 660 grader, tæthed på 2,7 og termisk ledningsevne på 0.53, mens neodym har et...

  Mere
• Aluminium Kobber (AlCu) Sputtering Target

  Aluminium Kobber-sputtermål er perfekt til en række industrier og applikationer på grund af dets høje hårdhed, trækstyrke og lette vægt. Det har normalt 1-3% kobberindhold og har de samme kemiske...

  Mere
• Aluminium Scandium (AlSc) Sputtering Target

  Scandium har en god spredningsforstærkende effekt på aluminium. Det er en stabil ikke-omkrystallisationsstruktur under varmbearbejdning eller udglødningstilstand. Nogle legeringer er koldvalsede...

  Mere
• Aluminium Silicium (AlSi) Sputtering Target

  Målene fremstilles ved at blande aluminium- og siliciumpulvere efterfulgt af komprimering til fuld densitet. De således komprimerede materialer sintres eventuelt og formes derefter til den ønskede...

  Mere