Produktbeskrivelse
Tungsten Titanium Sputtering Targets er produceret af pulvermetallurgiteknologi, som er meget udbredt til halvleder- og tyndfilmsolceller.
Til halvlederanvendelse bruges WTi10wt% tynd film som diffusionsbarriere og adhæsionslag til at adskille metalliseringslagene fra halvleder, for eksempel adskille aluminium fra silicium eller kobber fra silicium. Således kan halvlederens funktion i mikrochips forbedres betydeligt.
Til tyndfilmsolceller bruges WTi10wt% tyndfilm også som barrierelag for at forhindre, at jernatomer i stålsubstrat diffunderer til molybdæn tilbagekontakt og CIGS-halvleder. Wolfram Titanium-mål bruges også til LED- og værktøjsbelægning.
Vores fabrik kan producere WTi 90/10 vægt%, WTi 85/15 vægt% mål, og specialsammensætningsmål kan tilpasses, de faktiske måls tæthed > 99%.
|
Vare |
Tungsten titanium sputtering mål |
|
Tilgængelig Renhed |
99,9%min, som du anmoder om |
|
Tilgængelig form |
Rektangel, rund, roterende, pellets, ingots, efter din anmodning |
|
Størrelse |
Forhandles |
|
Teknologi |
Smeltning |
|
Ansøgning |
Vakuumbelægning, proces, dekoration, LED, semi, |
|
Relaterede produkter |
WNiFe, WTa, Mo, Ta, Nb, V, Zr, Hf, Ti, Ni, Cu osv. |
Produktionsproces: smeltning, lastning og værktøjsplettering.
1. Renhed: 99,9 %min.
2. Størrelse: Dimensioner er produceret efter kundens krav
Anvendelse: Det bruges hovedsageligt til vakuumbelægning, overfladebehandling, hård belægning, bygningsglasbelægning, fladskærm, solenergibelægning, optisk belægning og andre områder.
Populære tags: wolfram titanium (wti) sputtering target, Kina wolfram titanium (wti) sputtering target leverandører, fabrik
