Produktbeskrivelse
Vores mål af aluminium-kromlegering vedtager avanceret varm isostatisk presseproces. Produkterne omfatter rektangulært mål, buemål og stort aspektforhold integreret formet rørmål osv., med en bred vifte af sammensætningsforhold, høj renhed og tæthed, fordelene ved små og ensartede krystalkorn og lang levetid. Den kan justeres frit efter kundens krav, og den faktiske tæthed er tæt på 99%.
Følgende er produktionsprocessen af aluminium chrom mål
Råmaterialer - pulverblanding - beklædning - legeringspulverisering - kappepresning - varm isostatisk presning - metallografisk inspektion - trådskæring - bearbejdning - dimensionsinspektion - rengøring-emballering
Metallografisk inspektion af sputtermål af aluminium-chromlegering
Gennem gentagen smedning, valsning og varmebehandling kan vi passende justere mikrostrukturen af målmaterialet for at opnå den ønskede effekt. Hvis kornstørrelsen af forstøvningsmålmaterialet er ensartet, kan brugeren opnå en god forstøvningshastighed og ensartet belægning Gulv. Billedet nedenfor er et mikroskopisk metallografisk inspektionsbillede af aluminium chrom (AlCr 70/30at%) sputtermål, med en gennemsnitlig partikelstørrelse<100μm.
|
Vare |
Metal Aluminium Chrom Sputtering Targets (AlCr Target) AlCr30at% AlCr50at% AlCr40wt% osv |
|
Materiale |
Aluminium metalmaterialer |
|
Renhed |
99.9%-99.95%, 3N,3N5 |
|
Størrelse |
10x10x10mm,1-10mm, D3x3mm, 1inch,2inch,3inch,eller som forespørgsel |
|
Farve |
Metallisk farve |
|
Form |
Pellets, Granulat, Planar/Rund/Plade/Roterende/Bar, som forespørgsel. |
|
Overflade |
Poleret overflade |
|
CrDensitet |
7,19 g/cm3 |
|
CrSmeltepunkt |
1890 grader |
|
Ansøgning |
PVD-filmbelægning, optisk tyndfilmbelægning, industribrug, proces, halvlederområde, eksperimenter osv. |
Tilgængelig sammensætning
AlCr70/30at% sputteringsmål
AlCr50/50at% sputteringsmål
AlCr60/40at% sputteringsmål
AlCr30/70at% sputteringsmål
Populære tags: aluminium chrom (alcr) sputtering target, Kina aluminium chrom (alcr) sputtering target leverandører, fabrik
