Alloy sputtering mål
-
![Cobalt Iron Boron (CoFeB) Sputtering Target]()
Cobalt Iron Boron (CoFeB) Sputtering TargetFremkomsten af tyndfilm CoFeB har drevet forskning og industrielle applikationer i de sidste årtier, med den magnetiske random access memory (MRAM) det mest fremtrædende eksempel. På grund af...Mere -
![Cobalt Tantal Zirconium (CoTaZr) Sputtering Target]()
Cobalt Tantal Zirconium (CoTaZr) Sputtering TargetCobalt Tantal Zirconium Sputtering Target er produceret af smelteteknologi, det bruges normalt til magnetisk datalagringsfelt. Med op til 3N5 renhed, ensartet kornstørrelse, lavere iltindhold kan...Mere -
![Cerium Gadolinium (CeGd) Sputtering Target]()
Cerium Gadolinium (CeGd) Sputtering TargetCerium Gadolinium Alloy Sputtering Target (CeGd) er et nøglemateriale i tyndfilmsaflejring. Denne legering, der kombinerer cerium og gadolinium, tilbyder unikke egenskaber til...Mere
Vi er professionelle legeringsputtering rettet mod leverandører i Kina, specialiseret i at levere tilpasset service af høj kvalitet. Vi byder dig hjertelig velkommen til at købe rabatlegeringsmål på lager her og få gratis prøve fra vores fabrik. Kontakt os for priskonsultation.