Produktbeskrivelse
Sprøjte Mål Ti33Al67 mål
Vi er specialiseret i at producere højkvalitets sputtering Targets Ti33Al67 target sputtering target, keramisk target, metal target.
Produkterne anvendes på forskellige områder af vakuumbelægning ved forskellige metoder (magnetronforstøvning, vakuumplettering osv.): Videnskabelig forskning, rumfart, bilindustrien, mikroelektronik, integreret kredsløbsindustri, lyskilde, optik, dekoration, fladskærmsindustri, information lagringsindustri, datalagring og så videre.
Titanium aluminiumslegering sputtering mål kan laves på to måder, HIP og smeltning. Målet ved HIP vil være højere tæthed. Målet ved smeltning vil være højere renhed. Alt er baseret på din ansøgning.
Renhed: Al-Ti 33/67 at% Al/Ti 50/50 at%, 99,95%, 99,5%
Form: Diske, plade, trin (diameter 300 mm, tykkelse 1 mm) rektangel, ark, trin (længde 1000 mm, bredde 300 mm, tykkelse 1 mm) rør (diameter< 300mm, Thickness >2 mm)
Anvendelse: Primært brugt til belægning af værktøj, ikke-korrosionsventil/kemiske anlæg, marin industri.
Titanium Aluminium Sputtering Target Beskrivelse
|
Renhed |
Al-Ti (35/67at%), Al/Ti (50:50 at%), AlTi 97/3 vægt%, AlTi 95/5 vægt%, AlTi 90/10 vægt% |
|
Form |
Diske, plade, trin (diameter mindre end eller lig med 300 mm, tykkelse større end eller lig med 1 mm) (Længde mindre end eller lig med 1000 mm, bredde mindre end eller lig med 300 mm, tykkelse større end eller lig med 1 mm) |
|
Certificering |
ISO 9001:2008 |
|
Specifikation |
Tilpasset efter anmodning |
|
Behandle |
Smedet, Valsning, Slibning |
|
Ansøgning |
1. Galvanisering; 2. Kemiteknik og petrokemisk teknologi; 3. Medicinsk |
|
Massefylde |
4,51 g/cm³ |
Populære tags: ti33al67 target, Kina ti33al67 target leverandører, fabrik
