Produktbeskrivelse
Vi leverer højkvalitets Sputtering Targets Ti50Al50 sputtering target, keramisk target, metal target.
Sputtering Targets Ti50Al50 er produceret af HIP-teknologi, der er meget udbredt til værktøjsbelægning og dekorativ belægning. Sammenlignet med smelteteknologi har TiAl-mål, der produceres af HIP-teknologi, mere ensartet mikro-indre struktur, mindre kornstørrelse og velegnet til forskellige magnetronforstøvningsmaskiner og ionpletteringsmaskiner. Slutbrugeren kan opnå konstante erosionshastigheder samt høj renhed og homogen tyndfilmbelægning under PVD-processen.
Værktøjerne belagt med TiAl tynde film har højere fremføringshastigheder, bedre skæreydelse, længere levetid og højere metalfjernelseshastigheder kan opnås uden besvær.
Vores sputtering Targets Ti50Al50 er produceret ved avanceret HIP-proces og vakuum varmpresningsproces, inklusive plane targets, cirkulære bue targets, cylindriske targets (fremstillet ved monolitisk formningsmetode) osv. Det har karakteristika for bredt komponentforhold (fra 10at%{{3 }}at% for Al-komponenter), høj renhed og tæthed, fint og jævnt korn og længere levetid osv.
De typiske komponentforhold for TiAl-mål inkluderer 33:67at%, 50:50at% og 70:30at% osv.
Produktparametre
|
Kemiske komponenter (at%) |
Ti33Al67 |
Ti50Al50 |
Ti70Al30 |
|
Renhed (%) |
99.8 |
99.8 |
99.8 |
|
Massefylde (g/cm³) |
3.29 |
3.60 |
3.95 |
|
Kornstørrelse (μm) |
Mindre end eller lig med 100 |
Mindre end eller lig med 100 |
Mindre end eller lig med 100 |
|
Varmeledningsevne (W/mK) |
98 |
70 |
40 |
|
Varmeudvidelse (1/K) |
1.9*10-5 |
1.75*10-5 |
1.35*10-5 |
|
Specifikationsmål (mm) |
Cylindriske mål: |
||
Populære tags: sputtering target ti50al50, Kina sputtering target ti50al50 leverandører, fabrik
