Produktbeskrivelse
Yitech producerer Titanium Aluminium Sputtering Targets ved den avancerede varme isostatiske presningsproces. Disse bruges almindeligvis til belægning af hardwareværktøj, dekorativ belægning, halvlederkomponenter og fladskærmsbelægning. Årsagen til denne brug er høj duktilitet (lang levetid), høj termisk ledningsevne og homogen mikrostruktur.
Titanium Aluminium Sputtering Targets Information
Renhed: 99.5-99,9%;
Cirkulær: Diameter<= 1500 mm x 500 mm;
Rotary: Længde<=2000 mm, Thickness: <=15 mm;
Targets Type: Planar sputtermål, roterende sputtermål.
Titanium aluminium sputtering mål Analyse
|
Titanium aluminium sputtering mål |
Ejendomme |
Ejendomme |
Ejendomme |
|
Sammensætning (at%) |
Ti33Al67 |
Ti50Al50 |
Ti70Al30 |
|
Renhed |
99.80% |
99.80% |
99.80% |
|
Massefylde g/cm³ |
3.29 |
3.6 |
3.95 |
|
Kornstørrelse (um) |
Mindre end eller lig med 100 |
Mindre end eller lig med 100 |
Mindre end eller lig med 100 |
|
Termisk ledningsevne (W/mk) |
98 |
70 |
40 |
|
Termisk udvidelseskoefficient (K) |
1.9 x 10-5 |
1.75 x 10-5 |
1.35 x 10-5 |
Mere information om Titanium Aluminium Sputtering Targets
Ansøgninger
• Dekorativ belægning
• Belægning af hardwareværktøj
• Halvleder
• Fladskærme
Fremstillingsproces
• Pulverfremstilling
• Varm isostatisk presning
• Analyse: Kornforfining, udglødning, mikrografi, bearbejdning
• Rengøring og slutemballage - Rengøres til brug i vakuum
Funktioner
• Konkurrencedygtige priser
• Høj renhed
• Kornraffineret, konstrueret mikrostruktur
• 99,5 % minimum renhed
• Tilpassede sammensætninger af TiAl-mål tilgængelige (Al: 10at%-90at%)
• Mindre størrelser også tilgængelige til R&D-applikationer
• Sputtering target bonding service
Populære tags: titanium aluminium sputtering mål, Kina titanium aluminium sputtering mål leverandører, fabrik
