Cobalt sputtering mål
Cobalt sputtering mål

Cobalt sputtering mål

Kobolt er et sprødt, hårdt metal, der ligner jern og nikkel i udseende. Det har en metallisk permeabilitet på omkring to tredjedele af jerns. Cobalt har en tendens til at eksistere som en blanding af to allotroper over et bredt temperaturområde.
Send forespørgsel
Produktbeskrivelse

 

Kobolt er et sprødt, hårdt metal, der ligner jern og nikkel i udseende. Det har en metallisk permeabilitet på omkring to tredjedele af jerns. Cobalt har en tendens til at eksistere som en blanding af to allotroper over et bredt temperaturområde. Omdannelsen er træg og forklarer til dels den store variation i rapporterede data om kobolts fysiske egenskaber.

Smeltepunkt: 1495 grader Kogepunkt: 2927 grader

 

Et sputtermål er en skive af et materiale med høj renhed, der bruges som en atomart sputteringkilde til ionstrålebombardement. Kontakt os venligst, hvis din ønskede sputtermålstørrelse og/eller renhed ikke er angivet.

 

Tynd film coating materialer kobolt/ Co sputtering mål

 

Sputtering er en meget udbredt metode til tyndfilmaflejring, der anvender en fysisk dampaflejringsproces (PVD), hvor atomer udstødes fra et fast målmateriale på grund af bombardement af målet med energiske partikler.

 

I tilfælde af et koboltforstøvningsmål anvendes højrent kobolt som målmateriale. Processen begynder med at skabe et plasma i sputterkammeret, typisk med argongas. Ioner fra plasmaet accelereres mod koboltmålet med tilstrækkelig energi til at fjerne koboltatomer fra måloverfladen. Når disse koboltatomer udstødes, bevæger de sig hen over vakuumkammeret og aflejres på et substrat og danner en tynd film med de ønskede egenskaber. Sputteringsbetingelserne, herunder den effekt, der påføres målet, vakuumniveauet og gassammensætningen, kontrolleres omhyggeligt for at opnå de nødvendige filmkarakteristika, såsom tykkelse, ensartethed og krystalstruktur.

 

Cobalt (Co) tyndfilmsbelægninger fremstillet via sputtering er integreret i forskellige sektorer på grund af kobolts magnetiske egenskaber, slidstyrke og kemiske stabilitet. Disse film bruges overvejende i datalagringsindustrien til magnetiske optagemedier. De finder også anvendelser i elektronikindustrien til fremstilling af magnetiske sensorer, induktive komponenter og mikro-elektromekaniske systemer.

 

Cobalt Target sputtermål er lavet af højrent metaller 99,99% kobolt

Standardtykkelse 0,1 mm (100µm) Anden tykkelse tilgængelig på forespørgsel

Tilgængelig diameter Ø 20,0 mm, 20,4 mm, 32 mm, 39 mm, 42 mm, 50 mm, 50,8 mm, 54 mm, 57 mm, 60 mm, 63,5 mm, 75 mm, 76 mm.

 

Specifikation af Cobalt (Co) Sputtering Targets

 

Produkt:

kobolt/Co-sputtermål

Renhed:

99.95%

Størrelse:

tilpasset

Form:

Plan og roterende

Teknologi:

Vakuumsmeltning

Ansøgning:

infrarøde detektorer og magnetisk datalagringsfelt osv

Pakning:

Vacumm forseglet, trækasse

 

Populære tags: kobolt sputtering mål, Kina kobolt sputtering mål leverandører, fabrik