PVD belægningsmateriale

• Lithium Manganat (LiMn2O4) Sputtering Target

  Lithium manganat sputtering target er et sort sputtering materiale med elementet Li, Mn og O. Det er et ledende keramisk fast elektrolytmateriale til lithium-ion batterier.

  Mere
• Lithium Koboltat (LiCoO2) Sputtering Target

  Sputtering er en gennemprøvet teknologi, der er i stand til at afsætte tynde film fra en lang række materialer på forskellige substratformer og størrelser.

  Mere
• Yttriumoxid (Y2O3) Sputteringsmål

  Renhed: 99,99%;
  Produktionsmetode: varmpresset sintring;
  Tilgængelige dimensioner:
  

  Mere
• Zirconiumoxid (ZrO2) Sputteringsmål

  Vi producerer og leverer hele spektret af keramiske sputtering-mål og sammensatte mål, herunder oxid-sputtering-mål, carbid-sputter-mål, fluorid-sputter-mål, sulfid-sputter-mål og så videre....

  Mere
• Lithium Nniobat (LiNbO3) Sputtering Target

  Vores fabrik kan producere og levere hele spektret af keramiske sputtering-mål og sammensatte mål, herunder oxid-sputtering-mål, carbid-sputtering-mål, fluorid-sputter-mål, sulfid-sputter-mål og...

  Mere
• Zinkoxid/aluminiumoxid (AZO-ZnO/Al2O3) Sputteringsmål

  Vores fabrik producerer højrent aluminium-doteret zinkoxid (AZO) sputteringsmål med den højest mulige tæthed og mindst mulige gennemsnitlige kornstørrelser til brug i halvleder-, kemisk...

  Mere
• Wolfram Titanium (WTi) Sputtering Target

  Tungsten Titanium Sputtering Targets er produceret af pulvermetallurgiteknologi, som er meget udbredt til halvleder- og tyndfilmsolceller.

  Mere
• Aluminium Neodym (AlNd) Sputtering Target

  Aluminium neodym legering er et almindeligt anvendt magnetron sputtering mål. Aluminium har et smeltepunkt på 660 grader, tæthed på 2,7 og termisk ledningsevne på 0.53, mens neodym har et...

  Mere
• Aluminium Kobber (AlCu) Sputtering Target

  Aluminium Kobber-sputtermål er perfekt til en række industrier og applikationer på grund af dets høje hårdhed, trækstyrke og lette vægt. Det har normalt 1-3% kobberindhold og har de samme kemiske...

  Mere
• Aluminium Scandium (AlSc) Sputtering Target

  Scandium har en god spredningsforstærkende effekt på aluminium. Det er en stabil ikke-omkrystallisationsstruktur under varmbearbejdning eller udglødningstilstand. Nogle legeringer er koldvalsede...

  Mere
• Aluminium Silicium (AlSi) Sputtering Target

  Målene fremstilles ved at blande aluminium- og siliciumpulvere efterfulgt af komprimering til fuld densitet. De således komprimerede materialer sintres eventuelt og formes derefter til den ønskede...

  Mere
• Aluminium Chrom (AlCr) Sputtering Target

  Vores mål af aluminium-kromlegering vedtager avanceret varm isostatisk presseproces. Produkterne omfatter rektangulært mål, buemål og stort aspektforhold integreret formet rørmål osv., med en bred...

  Mere