PVD belægningsmateriale

• Tilpasset 3N5 Hafnium stang

  3N5 høj- hafniumstænger, 99,95 % renhed, nuklear-kvalitet! Modstandsdygtig over for ultra-høje temperaturer og stærk korrosion, det første valg til atomreaktorer, rumfartsmotorer og halvledermål.

  Mere
• 4N Carbon Target With Copper Backplate

  4N high-purity carbon sputtering target with copper backplate, 99.99% purity, ensures more stable sputtering! The copper backplate provides fast thermal conductivity and strong heat dissipation,...

  Mere
• Tilpasset 3N Tin Target

  Høj-renhed 3N tinsputtermål + tilpasset kobberbagplade fordobler sputtereffektiviteten! Sømløs limning forhindrer løsrivelse, hvilket resulterer i ensartede, urenhedsfrie-film – det bedste valg...

  Mere
• Tilpassede HfC-partikler

  Beskrivelse af tilpassede HfC-partikler HfC-partikler syntetiseres typisk ved at reagere hafniumdioxid (HfO₂) med kulstof ved høje temperaturer (1900-2300 grader) i en inert eller reducerende...

  Mere
• 3N5 rektangulært Hafnium-mål, der kan tilpasses

  3N5 hafniummål med høj-renhed, 99,95 % renhed, tilpassede rektangulære dimensioner nøjagtige til mikrometer! Det første valg til halvledercoating og optisk coating, der producerer en tæt,...

  Mere
• 3N Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3-mål

  Beskrivelse af 3N Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 Target Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 er et specielt doteret blyzirkonattitanat (PZT)-baseret sputtermål. Dens kemiske kerneformel er...

  Mere
• 4N Mg Magnesium Sputtering Target

  4N magnesium sputtering-mål er metalforstøvningsmaterialer med høj-renhed med en renhed på mere end eller lig med 99,99 %. De har fine korn og ensartet sammensætning, hvilket gør dem velegnede til...

  Mere
• 99,95% Hf Hafnium Sputtering Target

  99,95 % høj- hafniumforstøvningsmål, rumfarts-kvalitet Hf-metalmål, tilpasset størrelse, bundet kobberbagplade, brugt til halvledertynde film, optiske belægninger, militære belægninger,...

  Mere
• Zirkoniumrørsmål

  Zirconiumrørmål er tynde-væggede zirconiumrør med høj-renhed, som er korrosions-bestandige og høje-temperaturbestandige, hvilket producerer en tæt, ensartet film under sputtering. De bruges i vid...

  Mere
• Zrti Sputtering -mål

  Zrti Sputtering-mål bruges hovedsageligt i elektronisk informationsindustri, glasbelægningsfelt, højtemperaturkorrosionsbestandige materialer, high-end dekorative produkter,...

  Mere
• Zrti Sputter -mål

  Zrti Sputter -mål er et af de almindeligt anvendte metalsputteringsmål, som kan opdeles i plane mål, sprayede mål og roterende mål osv., Og spille en vigtig rolle i ionvakuumindustrien og...

  Mere
• Zirconium titanium zrti sputtering mål

  Zirconium titanium zrti sputtering mål er vidt brugt i multi-arc ion vakuumbelægning eller magnetron sputtering PVD i industrien og kan bruges som slidbestandige materialer, dekorative belægninger...

  Mere