PVD belægningsmateriale

• Erbium (Er) Sputtering Target

  Erbium er et kemisk grundstof i lanthanid-serien med symbolet Er og atomnummer 68. Et sølvhvidt fast metal, når det er kunstigt isoleret, findes naturligt erbium altid i kemisk kombination med...

  Mere
• Gadolinium (Gd) Sputtering Target

  Gadolinium-sputtermålet er sammensat af højrent metal europium (Gd). Det har et smeltepunkt på 1312 grader, et kogepunkt på 3250 grader og en massefylde på 7,895 g/cm3. Gadolinium er et sølvhvidt...

  Mere
• Germanium (Ge) Sputtering Target

  Germanium er et kemisk grundstof med symbolet Ge og atomnummer 32. Det er et skinnende, hårdt-skørt, gråhvidt metalloid i kulstofgruppen, der kemisk ligner dets gruppenaboer silicium og tin. Rent...

  Mere
• Holmium (Ho) Sputtering Target

  Holmium sputtermål er et sølvmetalmål lavet af højrent Holmium (Ho) metal. Det har et smeltepunkt på 1474 grader, et kogepunkt på 2695 grader og en massefylde på 8,79 g/cm3.

  Mere
• Hafnium（Hf） Sputtering Target

  Hafnium-sputtermål har samme ydeevne som metalhafnium (Hf). Hafnium med smeltepunkt på 2233 grader, kogepunkt på 4603 grader og massefylde på 13,31 g/cm3. Det er et skinnende sølvgrå...

  Mere
• Indium (In) Sputtering Target

  Indium-sputtermålet er et sølvblankt gråt mål, der består af højrent indium (In). Dens smeltepunkt er 156,61 grader, kogepunktet er 2060 grader, og densiteten er 7,3 g/cm3. Teksturen er meget...

  Mere
• Bismuth (Bi) Sputtering Target

  Bismuth er et hvidt, krystallinsk, skørt metal med et rosa skær. Bismuth er det mest diamagnetiske af alle metaller, og den termiske ledningsevne er lavere end noget andet metal undtagen kviksølv....

  Mere
• Aluminium (Al) Sputtering Target

  Aluminiumsputtermål har samme funktion som metalaluminium.Aluminium er et kemisk grundstof med symbolet Al og atomnummer 13. Det er et sølvhvidt, blødt, ikke-magnetisk og duktilt metal i...

  Mere
• Tantal（Ta） Sputtering Target

  Element Symbol: Ta
  Renhed: 3N5, 4N, 4N5, 5N
  Form: Planmål, Roterende mål
  

  Mere