Produktbeskrivelse
Sputtering er en ny type fysisk dampaflejring (PVD) metode. Sputtering er meget udbredt i: fladskærme, glasindustrien (inkluderer arkitektonisk glas, bilglas, optisk filmglas), solceller, overfladeteknik, optagemedier, mikroelektronik, billys og dekorativ belægning osv.
Type og størrelse
|
produktnavn |
Tungsten(W-1) sputtermål |
|
Tilgængelig renhed (%) |
99.95% |
|
Form: |
Plade, rund, roterende |
|
Størrelse |
OEM størrelse |
|
Smeltepunkt(grad) |
3407(grad) |
|
Atomvolumen |
9,53 cm³/mol |
|
Massefylde (g/cm³) |
19,35 g/cm³ |
|
Temperaturkoefficient for modstand |
0.00482 I/grad |
|
Sublimationsvarme |
847,8 kJ/mol (25 grader) |
|
Latent smeltevarme |
40,13±6,67 kJ/mol |
|
overfladetilstand |
Polering eller alkalisk vask |
|
Ansøgning: |
Luftfart, smeltning af sjældne jordarter, elektrisk lyskilde, kemisk udstyr, medicinsk udstyr, metallurgisk maskineri, smelteudstyr, petroleum osv. |
Funktioner
(1) Glat overflade uden porer, ridser og anden ufuldkommenhed
(2) Slibe- eller drejekant, ingen skæremærker
(3) Uovertruffen lerel af materiale renhed
(4) Høj duktilitet
(5) Homogen mikrotrukaltur
(6) Lasermærkning for din specielle vare med navn, mærke, renhedsstørrelse og så videre
(7) Hvert stykke forstøvningsmål fra pulvermaterialernes vare og nummer, blandearbejdere, udgasning og HIP-tid, bearbejdningsperson og pakningsdetaljer er alle lavet selv.
Ansøgninger
1. En vigtig måde at fremstille tyndfilmsmateriale på er sputtering - en ny måde til fysisk dampaflejring (PVD). Den tynde film fremstillet af mål er kendetegnet ved høj tæthed og god klæbeevne. Da magnetronforstøvningsteknikkerne anvendes i vid udstrækning, er de høje rene metal- og legeringsmål i stort behov. Med et højt smeltepunkt, elasticitet, lav termisk udvidelseskoefficient, resistivitet og fin varmestabilitet, bruges rene wolfram- og wolframlegeringsmål i vid udstrækning i halvleder-integreret kredsløb, todimensional skærm, solcelleanlæg, røntgenrør og overfladeteknik.
2. Det kan arbejde med både ældre sputtering-apparater såvel som det nyeste procesudstyr, såsom belægning med stort areal til solenergi eller brændselsceller og flip-chip applikationer.
Populære tags: høj renhed 99,95% wolfram sputtering target, Kina høj renhed 99,95% wolfram sputtering target leverandører, fabrik
