Metal titanium sputtering mål

Titanium har god korrosionsbestandighed og vedhæftning, så metal titanium sputtering mål bruges ofte til sputteringaflejring af ren titaniumfilm eller reaktiv sputtering afsætning af tinfilm, hovedsageligt brugt som en diffusionsbarriere-lag, der er forbundet med aluminium, og sammenkoblet med kobber et hårdt maskelag, et hovedlag til at beskytte det nickel-platinum-sammensætning og et antitrafflektion.

Send forespørgsel

Metal titanium sputtering mål

I de senere år, med den hurtige udvikling af mit lands integrerede kredsløb, fladpaneldisplay, solenergi og andre industrier, er efterspørgslen efter metalmål, der bruges i sputteringsprocessen, steget hurtigt, og metal titanium sputtering mål er en meget vigtig funktionel film inden for elektronisk informationsmateriale.

Metal Titanium Sputtering-målet, der leveres af vores virksomhed, har høj renhed, blandt hvilke 99,95%, 99,99% og 99,995% højrulhedsmål kan produceres, og har også bestået strenge kvalitetsinspektioner, så du kan bestille vores produkter med tillid.

Specifikation af metal titanium sputtering mål

Grad	Grad 1-4
Teknik	Sintring, smedning, annealing, rulle, vakuumsmeltning, bearbejdning
Renhed	99.9%-99.995%
Diameter	Tilpasset
Tykkelse	Tilpasset
Størrelse	Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1 mm)
Størrelse	Tube (rotorisk mål, OD: 20mm -160 mm, tykkelse: 2-20 mm)
Densitet	4,54 g\/cm3
Overflade	Polering, lys, kemisk rengøring, sort oxid osv.
Form	Disk, plade, rektangulær, firkant
Standard	ASTM B385