Titanium (Ti) Sputtering Target

Titanium-sputtermålet er lavet af titaniummetal. Som et metal er titanium anerkendt for dets høje styrke-til-vægt-forhold. Det er et stærkt metal med lav densitet, der er ret sejt (især i et iltfrit miljø), skinnende og metallisk-hvid i farven. Det relativt høje smeltepunkt (mere end 1.650 grader eller 3,000 grader F) gør det nyttigt som et ildfast metal. Det er paramagnetisk og har ret lav elektrisk og termisk ledningsevne.

Titanium sputtering mål og bue katoder med industriel kvalitet bruges til dekorativ belægning for at afsætte gylden, gul og gylden gul farve. Med op til 99,7% renhed, ensartet kornstørrelse, lavere gasindhold kan slutbrugeren opnå god hårdhed, høj lysstyrke, korrosions- og oxidationsbestandig farve uden misfarvning og anløbning i meget lang tid. Vi har leveret Titanium Sputtering Target eller Titanium bue katoder til producenter af ur, sanitetsartikler, bilspejle osv., som er velegnede til forskellige magnetron sputtering maskiner og ionisk plating maskiner.

Titanium Sputtering Targets med høj renhed med op til 99,999% renhed bruges normalt til integrerede kredsløb, DRAMS og fladskærme. Når LSI-, VLSI- og ULSI-linjenetværk sputteres med titanium af høj renhed, kan disse integrerede komponenter gøres lette, tynde, små i størrelse og tætte i ledninger. Højrent titaniummål kan også bruges som barrieremetalmateriale.

TiAlV sputtermål

WTi sputtermål

TiAl sputtermål

TiSi sputtermål

NbTi sputtermål

NiTi sputtermål

CuTi sputtermål

VTi sputtermål

TiCr sputtermål

Populære tags: titanium (ti) sputtering mål, Kina titanium (ti) sputtering mål leverandører, fabrik