Tilpasset Hf-sputtermål med høj renhed

Vi tilbyder skræddersyede-fremstillede hafnium-sputtermål med høj-renhed med en renhed på over 99,9 %, med ensartet tæthed og fin mikrostruktur. Specielt designet til halvlederchips, optiske belægninger og rumfartsapplikationer sikrer de tættere belægninger og overlegen ledningsevne. Tilpasning til tegningsdimensioner understøttes med hurtige leveringstider, hvilket letter din banebrydende-FoU og masseproduktion.

Send forespørgsel

Beskrivelse af skræddersyet High Purity Hf Sputtering Target

Høj-renhed af hafniumforstøvningsmål er vigtige grundlæggende materialer i halvlederfremstilling, optisk belægning og luftfartsindustrien. Deres kerneværdi ligger i deres ekstremt høje materialerenhed (typisk når 99,95 % eller højere) og fremragende fysisk-kemiske stabilitet, som sikrer dannelsen af ensartede, højtydende tynde film under sputtering. Urenhedsindholdet er ekstremt lavt (f.eks. kan zirconiumindhold være mindre end 0,5%), hvilket underbygger garantien for tyndfilmenes elektriske ydeevne og pålidelighed.

Anvendelser af skræddersyet High Purity Hf Sputtering Target

Semiconductor Manufacturing: Anvendes til fysisk dampaflejring (PVD), især til fremstilling af høj-k isolerende film til transistor-gates, et uundværligt materiale til avancerede chipfremstillingsprocesser.

Optiske belægninger: Bruges til at fremstille tynde film til optiske komponenter såsom spejle og linser; deres høje renhed sikrer fremragende optisk ydeevne.

Luftfart og ny energi: Bruges til høj-temperaturbeskyttende belægninger eller funktionelle film på motorkomponenter, turbinevinger osv., hvilket forbedrer komponenternes overfladehårdhed og levetid.

Specifikationer af skræddersyet High Purity Hf Sputtering Target

Materiale	Større end eller lig med 3N Hf
Teoretisk massefylde (g/cc)	13.31
Z-forhold	0.36
Sputter	DC
Renhed	99,9 % (Zr mindre end eller lig med 0,5 vægt-%)
Størrelse	Dia. 1tommer - 8tommer
Type obligation	Indium, Elastomer

Kvalitetskontrol og afprøvning af skræddersyet High Purity Hf Sputtering Target

1QC

Ofte stillede spørgsmål om tilpasset High Purity Hf Sputtering Target

Er du en fabrik eller afabrikant?
A: Ja, vi er en Customized High Purity Hf Sputtering Target-fabrik, men vi bruger generelt vores handelsselskab til at håndtere forretningen i udlandet. Det vil være mere bekvemt at modtage remitteringen og arrangere forsendelsen.

Hvad er leveringsmetoden?
A: Generelt sender vi Customized High Purity Hf Sputtering Target af UPS, DHL eller FedEx. Vi kan også sende til søs til en havn eller med fly til den nærmeste lufthavn.

Hvorfor er dit Customized High Purity Hf Sputtering Target så omkostningseffektivt-?
A: Vi fjerner mellemleddene i sidste ende-for at-afslutte fremstillingsprocessen, og vi får råmateriale direkte fra dets kilde.

Laver du spotkvalitetskontrol afprodukter?
A: 100% fuld inspektion helt sikkert. Alle ukvalificerede Customized High Purity Hf Sputtering Targets kasseres.

Hvordan sikrer du din leveringstid?
A: Fra materialeforberedelse til bearbejdning og endelig til en komplet inspektion. Hvert trin i produktionen er strengt overvåget og kontrolleret for at give dig en nøjagtig leveringstid.

Hvad er MOQ for Customized High Purity Hf Sputtering Target?
A: Afhænger af mængden af tilpasset High Purity Hf Sputtering Target; generelt ingen MOQ-grænse.

Hvordan man betaler forprodukterne?
A: En bankoverførsel (T/T) vil være acceptabel.

Hvad er leveringstiden?
A: Omkring 7-20 dage, hvilket afhænger af mængden og produktionen af Customized High Purity Hf Sputtering Target.

Hvad er det for en pakke?
A: Generelt bruger vi en kartonkasse eller krydsfinerkasse med beskyttende materiale indeni for at sikre sikkerheden for det tilpassede High Purity Hf Sputtering Target.

Hvad er gennemløbstiden?
A: Fra ordreafgivet til godsmodtagelse vil der gå omkring 10-25 dage.

Populære tags: tilpasset høj renhed hf sputtering mål, Kina tilpasset høj renhed hf sputtering target leverandører, fabrik